เครื่องเคลือบอัดรีดความแม่นยำสำหรับสายการผลิตแบตเตอรี่

1. บทนำโดยย่อ  ของ  โครงสร้างเครื่องW hole   

1.1 ส่วนประกอบของอุปกรณ์:

①  กลไกการคลายแกนเดี่ยว

②  กลไกการเคลือบด้านแรก

③  กลไกเตาอบสองชั้น

④  กลไกการยึดเกาะ

⑤  กลไกการเคลือบด้านที่สอง

⑥  กลไกการยึดเกาะ

⑦  กลไกการม้วนแกนคู่

⑧  ระบบการป้อนแบบแม่นยำ (สองชุด)

⑨  ระบบควบคุมไฟฟ้า

1.2 กระบวนการทางเทคโนโลยี:

วัสดุฐานของแผ่นขั้วที่ติดตั้งบนอุปกรณ์คลายเกลียวจะเข้าสู่ระบบความตึงคลายเกลียวหลังจากการแก้ไขอัตโนมัติ และเข้าสู่หัวเคลือบหลังจากปรับความตึงคลายเกลียว แผ่นขั้วจะถูกเคลือบตามขั้นตอนการตั้งค่าของระบบเคลือบ ชิ้นส่วนอิเล็กโทรดเปียกที่เคลือบแล้วจะเข้าสู่เตาอบชั้นล่างและอบแห้งด้วยลมร้อน ชิ้นส่วนขั้วหลังจากการอบแห้งจะถูกปรับแก้โดยระบบปรับแก้ จากนั้นความตึงจะถูกปรับโดยระบบปรับความตึง ในขณะเดียวกัน ความเร็วแรงดึงจะถูกควบคุมให้สอดคล้องกับความเร็วของการเคลือบครั้งที่สอง หลังจากที่ชิ้นส่วนขั้วถูกเคลือบด้านหลังด้วยหัวเคลือบที่สองแล้ว มันจะเข้าสู่เตาอบชั้นบนเพื่ออบแห้งด้วยลมร้อน หลังจากที่ชิ้นส่วนขั้วหลังจากการอบแห้งได้รับการแก้ไขโดยชุดดึงที่สองและปรับความตึงแล้ว มันจะถูกพันด้วยอุปกรณ์ม้วน

2. พารามิเตอร์ทางเทคนิค ของ อิเล็กโทรด แบตเตอรี่

2.1 ความหนาของพื้นผิวที่เหมาะสม: ฟอยล์อลูมิเนียม: 0.010-0.030 มม. ฟอยล์ทองแดง: 0.006-0.030 มม.

2.2  ความกว้างของพื้นผิวที่เหมาะสม: ฟอยล์อลูมิเนียม: 300-660 มม., ฟอยล์ทองแดง: 300-660 มม.

2.3  ขนาดขดลวดอลูมิเนียม/ฟอยล์ทองแดงแบบชิ้นขั้ว: รูรับแสงแกน 3 นิ้ว

2.4  ข้อกำหนดทางเทคนิคสำหรับการพันและคลายการเคลือบ: เส้นผ่านศูนย์กลางคอยล์ ≤ φ 500 มม. เส้นผ่านศูนย์กลางแกน 3 นิ้ว

2.5  สารละลายเคลือบ: หลังจากที่สารละลายถูกกวนและกรองจนครบตามข้อกำหนดของการเคลือบแบตเตอรี่แล้ว สารละลายจะถูกเติมลงในถังที่กำลังทำงานและกวนอย่างต่อเนื่องเพื่อรักษาประสิทธิภาพการเคลือบของสารละลาย

2.6  ความหนาของการเคลือบแบบแห้งด้านเดียว (ไม่รวมพื้นผิว): 50-150μm；  ความหนาของการเคลือบแบบเปียกสูงสุด: 100-500μm (เมื่ออนุญาตให้มีความหนืดของสารละลาย)

3.พารามิเตอร์ ประสิทธิภาพหลัก 

เลขที่.	โครงการ	พารามิเตอร์	หมายเหตุ
1	ความเร็วปกติ  ของ  การเคลือบผิว	≤2 4ม./นาที	ความเร็วการเคลือบปกติจะสัมพันธ์กับระบบวัสดุ ความหนาของการเคลือบ และปริมาณของแข็ง
2	การ  เคลือบ  ความเร็วAความแม่นยำ  E rror	≤0.1ม./นาที
3	ความกว้างของการเคลือบ	≤650มม.
4	ความยาวเคลือบ  ( ชิ้น  เดียว)	≤2500มม.
5	เครื่องเคลือบ  ความเร็ว	40ม./นาที
6	ความ ยาว รวม  ของ  คอเตอร์	≤43ม.	มีความสัมพันธ์ที่ดีกับการกำหนดค่า
7	อุปกรณ์  A ir  ความดัน	0.6 ～0.8 เมกะปาสคาล	แห้งและปราศจากสิ่งเจือปน
8	การเคลือบ  ด้านเดียว  แห้งความหนา  E rror	ลิเธียม(NiCoMn)O2 , ลิเธียมไอออน โคบอลต์ ±2μ (แมงกานีส± 2 ไมโครกรัม)	ไม่รวมขอบ หัว และหาง  8 มม.
9	เคลือบ  สอง  ด้านแห้งความ  หนาE rror	ลิเธียม(NiCoMn)O2 , ลิเธียมไอออน คาร์บอนแบล็ค±3.0μm (แมงกานีส± 3 ไมโครกรัม)
10	ด้านข้าง  เดี่ยว  Wแปด  E rror ใน  S single  C hip	±1.5%	วิธีการวัด (รูปที่  B )
11	ความ  ยาวเคลือบขั้นต่ำ	20 มม.
12	ขนาดความยาวขั้น  ต่ำ  ของ  เสาเดี่ยว	50มม.	( เคลือบ หนึ่งชั้นพร้อมช่องว่าง)
13	ขนาดความยาวขั้น  ต่ำ  ของ  เสาเดี่ยว  และเสาคู่	100 มม.	(เคลือบ 2 ชั้น พร้อมช่องว่าง)
14	ความหนาด้าน  เดียว  ความผิด  พลาดของ  อิเล็กโทรด  หัวและ  ท้าย	-10ไมโครเมตร~ +5ไมโครเมตร
15	ช่วงเวลา  การเคลือบ  ผิวช่องว่างต่ำ  สุด	10 มม.	เมื่อความเร็วในการเคลือบเพิ่มขึ้น ยิ่งความเร็วสูงขึ้น ช่องว่างขั้นต่ำก็จะยิ่งมากขึ้น
16	ข้อผิดพลาด  ความ แม่นยำ ของ  ความยาวเคลือบ	±1.0 มม.	ภายใน 3000 มม.
17	ความผิด พลาด  ของ การทับ ซ้อน ของ  การเคลือบด้านหน้าและ  ด้าน  หลัง	±0.5 มม.
18	ความผิด พลาด  ของการทับซ้อนของ  ขอบ  เคลือบด้านหน้าและ  ด้านหลัง	±0.5 มม.
19	Edge  U niformity  Error of  W inding	± 1 มม. (เริ่มคำนวณหลังจาก 5 รอบ)	ม้วน Φ 500 มม.